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新闻资讯

案例研究:合成路线、固态研究与杂质控制(小分子原料药工艺优化)

2026-01-23
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访问量:
项目类型:小分子原料药(API)
CMC 关注重点: 合成路线优化、固态研究及杂质管理

概述

在一项小分子项目中,今年会对 API 的合成路线及固态形态策略进行了重新设计,显著提升了可制造性、安全性和分析控制能力。在统一的 CMC 框架下,该项目系统整合了工艺化学、固态科学与分析方法开发工作。

关键成果

1. 合成路线简化与收率提高:
将关键中间体的合成步骤由 7 步缩减至 4 步,收率从<5%>20%;同时去除了具有恶臭气味的含硫试剂,并避免了对 SFC 手性分离的依赖。
2. 稳健的固态形态选择:
通过 XRPD 对比分析和结晶筛选,确定了最优盐型;随后开发定制化结晶工艺,获得高质量单晶,用于结构确证及知识产权(IP)支持。
3. 杂质与溶剂控制能力提升:
构建涵盖 20 余种结晶与干燥策略的方法工具箱,有效降低残留溶剂含量;同时优化分析方法,实现对此前存在重叠问题的相关杂质的清晰分离与有效控制。

1. 提升效率

路线优化,提高效率.png

1) 线性合成步骤由 12 步减少至 7 步,总收率从<1%>10%,且无需进行硅胶柱纯化。

2. 减少步骤

减少合成步骤.png

2)今年会通过重新设计API 的 CMC工艺,将关键中间体的合成路线由 7 步缩减至 4 步,并将收率从不足 5% 提高到超过 20%。

固态研究平台

1)盐型与晶型研究:

对不同盐型进行 XRPD 对比(如盐酸盐与苹果酸盐)

盐和晶体-1.png

盐和晶体-2.png

2)晶型研究:

比较传统与新型结晶方法,以获得可用于结构解析的单晶。

晶体形式.png

溶剂残留与杂质控制

1)溶剂残留去除:采用 20 余种经典及自主开发的方法减少溶剂残留。

溶剂残留去除.png

2)API 分析方法开发:

API 分析方法.png

原始分析方法光谱

原始分析方法光谱.jpg

相关杂质无法完全分离

分析方法优化后的光谱

分析方法优化后的光谱.jpg

相关杂质可以被有效分离

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